現場供氣
現場供氣，是一種在發達國家非常成熟的氣體供應方式，其含義是由專業氣體公司在氣體用戶現場，為滿足生產工藝中對氣體種類、 純度和壓力等的不同需求，提供氣體解決方案，投資建設和管理氣體生產和供應裝置,一對一地供應工業氣體。 使用第三方現場供氣可以克服富裕氣體產品因淡旺季差異對供應可靠性的影響，大大提高供應的可靠性，并且由于供應方式的改變使得氣體使用成本大大下降。從國際經驗看，海外絕大多數的客戶選擇了第三方供氣，而不是由客戶自己投資建設氣站，其原因是：
－省力。在需要用氣時打開閥門不需要時就關掉它，不須花錢買設備，費力管設備，用氣就像使用自來水一樣的方便；
－省心。氣體設備的運行風險、生產成本和氣體質量由專業氣體公司承擔和控制，在整個合同期內用氣成本清晰明了不受市場波動影響；
－可靠。氣體的現場制氣系統融合了當今世界先進技術水平的現場制氣方案和設備。現場制氣系統能夠實現全天候的在線和遠程控制，能自產備用液氧、液氮保障客戶用氣的性；
－經濟。專業公司管理能在不增加客戶全成本的前提下，降低客戶的氣體使用成本。我們提供多種適應性強的現場供氣方式，我們擁有專業技術人員保證您的氣體供應質量好、安全度高和可靠性強。 根據您的生產過程的參數（純度、流量、氣壓），我們將為您量身定制一套現場供氣方案，使我們的供氣設施可以和您的用氣項目可以同步建成，使客戶在不增加一分錢投資的前提下方便地使用專業供氣的氣體，并達到省力、省心、省錢的效果。
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工業氣體在化學和石化工業中的應用方式非常豐富多樣。有惰化、氫化和氧化處理或者常見簡單的燃燒等典型的應用，氮氣在化工廠，主要用作保護氣、置換氣、洗滌氣，以保障安全生產，低溫液化氣體的應用更是促成了許多革新，例如反應溫度控制和溶劑回收，使您在降低成本的同時也保護了環境。
對于需求高純度氣體供應的化工企業， 璟和電子科技將會尋找適合的方案，為每一位朋友節約每一分錢成本，帶來每一份流暢可靠的服務。
氮氣在化工廠，主要用作保護氣、置換氣、洗滌氣，以保障安全生產
氫、氧等作為能量介質是航空、航天的重要燃料；
氬、氮、氦作為保護介質用于生產高純凈、超絕緣、超導等高新技術領域；
半導體產業是現代信息社會的核心基礎產業。現今的半導體技術，以高頻、大電流、高電壓、低功耗、納米加工技術、SoC設計、SiP封裝技術為特征，依然充滿創新的活力。半導體光電、太陽能光伏、MEMS等新一代半導體基礎產業，新型平板顯示、下 一代互聯網、物聯網、智能電網、汽車電子、節能環保等21世紀的戰略性新型產業的發展都將以半導體技術與產品為重要基礎。 半導體行業常用氣體：NH3 氨氣應用：CVD工藝植入氮化硅薄膜，在帶間隙的高
速、高功率半導體晶體管上植入氮化硅化合物等。N20 一氧化二氮 (笑氣)應用：和硅烷一起用于在CVD過程中生成氮化硅薄
膜。SiH4 硅烷應用：在外延生長技術中用作硅源、用于低溫二氧
化硅CVD、用于氮化硅CVD 、氯硅烷類及烷基氯硅烷類的骨架結構，硅的外延生長、多晶硅、氧化硅、氮
化硅等的原料。BCl3 三氯化硼應用：等離子刻蝕、在離子植入中用作硼源（N摻雜）CO2 二氧化碳應用：在半導體制造中氧化、擴散、化學氣相淀積，CVD中改變去離子水的導電性。C4F8 八氟環丁烷應用：刻蝕氣體 / 等離子刻蝕SF6 六氟化硫應用：等離子刻蝕CF4 四氟化碳應用：以純四氟化碳或者和氧氣混合的方式，用于在CVD過程之前，對二氧化硅、氮化硅、多晶硅和一些
硅－金屬化合物進行的等離子刻蝕Xe 氙氣應用：在離子植入中作為電子源
利用太陽能的佳方式是光伏轉換，就是利用光伏效應，使太陽光射到硅材料上產生電流直接發電。以硅材料的應用開發形成的產業鏈條稱之為光伏產業，包括高純多晶硅原材料生產、太陽能電池生產、太陽能電池組件生產、相關生產設備的制造等。 太陽能是未來清潔、安全和可靠的能源，發達國家正在把太陽能的開發利用作為能源革命主要內容長期規劃，光伏產業正日益成為國際上繼IT、微電子產業之后又一爆炸式發展的行業。在光伏行業中，氣體主要用于薄膜沉積和清洗。這些工藝中，常用的氣體有：氨氣（NH3）、硅烷（SiH4）、四氟化碳(CF4)、三氟化氮（NF3）。光伏行業中的常用氣體
NH3 氨氣
應用：在CVD過程中生成氮化硅薄膜
SiH4 硅烷
應用：在外延生長技術中用作硅源、用于低溫二氧化硅CVD、用于氮化硅CVD
NF3 三氟化氮
應用：清洗CVD反應室, 對硅和氮化硅蝕刻
O2 氧氣
應用：爐室清洗
PH3 磷烷
應用：摻雜氣體
He 氦氣
應用：用于冷卻、晶體生長、等離子干刻
CF4 四氟化碳
應用：以純四氟化碳或者和氧氣混合的方式，用于在CVD過程之前，對二氧化硅、氮化硅、多晶硅和一些硅－金屬化合物進行的等離子刻蝕。
B2H6 乙硼烷
應用：在離子植入中用作硼源（P摻雜）、用于外延生長